标准编号：GB/T 19444-2004
标准名称：硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法
标准类型：推荐性
标准英文：Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
标准状态：现行
发布日期：2004-07-01
实施日期：2004-02-05
标准语言：中文
发布部委：
国际分类：电气工程
国内标准分类号：H26
国际标准分类：29.040
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
标准类别：方法
代替标准：
起草单位：洛阳单晶硅有限责任公司
起草人：