标准编号：GB/T 25188-2010
标准名称：硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
标准类型：推荐性
标准英文：Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy
标准状态：现行
发布日期：2011-08-01
实施日期：2010-09-26
标准语言：中文
发布部委：
国际分类：化工技术
国内标准分类号：G04
国际标准分类：71.040.40
技术归口：全国微束分析标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
标准类别：方法
代替标准：
起草单位：中国科学院化学研究所 中国计量科学研究院
起草人：刘芬 王海 赵志娟 邱丽美 赵良仲宋小平