标准编号：GB/T 14847-2010
标准名称：重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
标准类型：推荐性
标准英文：Test mothod for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance
标准状态：现行
发布日期：2011-10-01
实施日期：2011-01-10
标准语言：中文
发布部委：
国际分类：电气工程
国内标准分类号：H80
国际标准分类：29.045
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
标准类别：方法
代替标准：GB/T 14847-1993
起草单位：宁波立立电子股份有限公司 信息产业部专用材料质量监督检验中心
起草人：李慎重 何良恩 何秀坤 许峰刘培东