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GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

标准号
GB/T 34649-2017
下载格式
PDF
发布日期
2018-04-01
实施日期
2017-09-29
标准类别
国家标准
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简介

标准编号:GB/T 34649-2017

标准名称:磁控溅射用钌靶

标准类型:推荐性

标准英文:Magnetron sputtering ruthenium target

标准状态:现行

发布日期:2018-04-01

实施日期:2017-09-29

标准语言:中文

发布部委:

国际分类:冶金

国内标准分类号:H68

国际标准分类:77.150.99

技术归口:全国有色金属标准化技术委员会

主管部门:中国有色金属工业协会

标准类别:产品

代替标准:

起草单位:有研亿金新材料有限公司 有色金属技术经济研究院

起草人:罗俊锋 丁照崇 万小勇 刘书芹 贺昕 滕海涛 李勇军向磊熊晓东王庄高岩

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