标准编号：GB/T 42905-2023
标准名称：碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法
标准类型：推荐性
标准英文：Test method for thickness of silicon carbide epitaxial layer—Infrared reflectance method
标准状态：现行
发布日期：2024-03-01
实施日期：2023-08-06
标准语言：中文
发布部委：
国际分类：冶金
国内标准分类号：H21
国际标准分类：77.040
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
标准类别：方法
代替标准：
起草单位：安徽长飞先进半导体有限公司河北普兴电子科技股份有限公司南京国盛电子有限公司布鲁克（北京）科技有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司 安徽芯乐半导体有限公司 广东天域半导体股份有限公司 浙江芯科半导体有限公司 中国科学院半导体研究所
起草人：钮应喜 刘敏 丁雄杰 吴会旺 李京波 张会娟 雷浩东 闫果果 袁松赵丽霞仇光寅李素青赵跃彭铁坤