标准编号：GB/T 43315-2023
标准名称：硅片流动图形缺陷的检测 腐蚀法
标准类型：推荐性
标准英文：Test method for flow pattern defects in silicon wafer—Etching technique
标准状态：即将实施
发布日期：2024-06-01
实施日期：2023-11-27
标准语言：中文
发布部委：
国际分类：冶金
国内标准分类号：H21
国际标准分类：77.040
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
标准类别：方法
代替标准：
起草单位：中环领先（徐州）半导体材料有限公司中环领先半导体材料有限公司厦门万明电子有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司浙江旭盛电子有限公司 山东有研半导体材料有限公司 浙江海纳半导体股份有限公司 有色金属技术经济研究院有限责任公司 麦斯克电子材料股份有限公司
起草人：朱志高 陈俊宏 李素青 朱晓彤 潘金平 张海英 陈跃骅 黄景明 陈凤林高海棠由佰玲吕莹胡晓亮方丽霞