标准编号：GB/T 29844-2013
标准名称：用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
标准类型：推荐性
标准英文：Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
标准状态：现行
发布日期：2014-04-15
实施日期：2013-11-12
标准语言：中文
发布部委：
国际分类：电子学
国内标准分类号：L90
国际标准分类：31.030
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
标准类别：基础
代替标准：
起草单位：上海华虹NEC电子有限公司
起草人：王雷 伍强 朱骏陈宝钦