标准编号：GB/T 44221-2024
标准名称：光学系统波前像差的测定 夏克-哈特曼光电测量法
标准类型：推荐性
标准英文：Determination of wavefront aberration in optical systems—Electro-optical Shack-Hartmann method
标准状态：即将实施
发布日期：2025-02-01
实施日期：2024-07-24
标准语言：中文
发布部委：
国际分类：计量学和测量、物理现象
国内标准分类号：L50
国际标准分类：17.180.99
技术归口：全国光电测量标准化技术委员会
主管部门：中国科学院
标准类别：方法
代替标准：
起草单位：中国科学院苏州生物医学工程技术研究所中国标准化研究院中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国计量科学研究院浙江舜宇光学有限公司苏州一光仪器有限公司 中国科学院光电技术研究所 中国科学院空天信息创新研究院 苏州慧利仪器有限责任公司 长春奥普光电技术股份有限公司 成都科奥达光电技术有限公司 舟山市质量技术监督检测研究院
起草人：史国华 邢利娜 蔡建奇 王璞 洪宝玉 冯长有 谢桂华 伍开军 何益杨金生刘春雨韩森包明帝叶虹沈晨雁郝华东
SACGB/T 44221—2024目次前言·1范围······．2规范性引用文件··．3术语和定义····．4黃测量原理及方法·4.1测量原理····.·24.2光学系统波前像差测量方法·24.3黃光学零件面形偏差的测量·····35测量条件···45.1個测量环境··.··45.2關样品···．·46设备及装置····46.1测量仪··．6.2辅助镜头···．··57测量步骤··.57.1测量前准备···.·57.2沃波前重构方法的选择····.67.3元光路对准········.···7.4黃测量与数据的判定··h8测量数据处理···．·69测量报告，附录A（资料性）」波前复原方法···8附录 B（资料性）Zernike 多项式序列·，11附录C（资料性）测量报告·Q·13参考文献····．14