标准编号：YS/T 819-2012
标准名称：电子薄膜用高纯铜溅射靶材
标准状态：现行
发布日期：2012-11-06
实施日期：2013-02-28
标准语言：中文
发布部委：工业和信息化部
行业分类：有色金属
所属部委：工业和信息化部
国内标准分类号：H62
国际标准分类：71.150.30
技术归口：全国有色金属标准化中心
发布部门：工业和信息化部
行业标准：无
制修订：制定
代替标准：
起草单位：宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司
起草人：王学泽、宋佳 等
YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
标准号
YS/T 819-2012
下载格式
PDF
发布日期
2012-11-06
实施日期
2013-02-28
标准类别
行业标准
简介
声明：资源收集自网络无法详细核验或存在错误，仅为个人学习参考使用，如侵犯您的权益，请联系我们处理。